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  • GMD2000光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)

    光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)新的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,膠體磨磨頭+分散盤定轉(zhuǎn)子,先研磨后分散效果更佳。

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  • GRS2000納米白炭黑管線式分散機(jī)

    納米白炭黑管線式分散機(jī)透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

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  • GMD2000納米金屬氧化物研磨分散機(jī)

    納米金屬氧化物研磨分散機(jī)是將物料進(jìn)行一個(gè)全局的混合分散剪切,物料從儲(chǔ)料罐中進(jìn)入到工作腔體進(jìn)行360度高頻次的剪切、分散、撞擊、摩擦,因此物料更細(xì)、分散穩(wěn)定性更好。

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  • GMD2000石墨烯富鋅底漆涂料分散機(jī)

    石墨烯富鋅底漆涂料分散機(jī)在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出z終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

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  • GMD2000磷酸氫鈣混懸劑分散機(jī)

    磷酸氫鈣混懸劑分散機(jī)處理磷酸氫鈣,磷酸氫鈣+水,然后通過(guò)SGN高剪切分散機(jī)進(jìn)行研磨均質(zhì)處理,可獲得相應(yīng)粒徑要求,并且粒徑均勻性高,效率高。

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  • GMD2000蠕蟲(chóng)膨脹石墨高剪切分散機(jī)

    蠕蟲(chóng)膨脹石墨高剪切分散機(jī)利用剪切力、摩擦力或沖擊力將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹(shù)脂等包覆住,以便達(dá)到顆粒*被分離、潤(rùn)濕、分布均勻及穩(wěn)定目的。

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  • GMD2000石墨烯涂層漿料高剪切分散機(jī)

    石墨烯涂層漿料高剪切分散機(jī)的線速度達(dá)21M/S,由3級(jí)可調(diào)間隙的錐形定子和4級(jí)高速旋轉(zhuǎn)的錐形轉(zhuǎn)子形成研磨模塊,根據(jù)生產(chǎn)要求,剪切研磨間隙可從0.01mm至2mm無(wú)級(jí)調(diào)速,定轉(zhuǎn)子每一級(jí)上的凹槽一級(jí)比一級(jí)精細(xì),深度,方向的不同增加了流體的揣流。

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  • GRS2000油漆高剪切分散機(jī)

    油漆高剪切分散機(jī)高速馬達(dá),可選配不銹鋼帶夾套工作腔或玻璃工作腔。*的定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu),產(chǎn)生*的剪切力,迅速減小液滴尺寸,處理物料更精細(xì)、更均勻。

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